삼성전자, SK하이닉스 반도체 기술 중국 유출

삼성전자와  SK하이닉스의 핵심기술을 중국에 유출시킨 국내 협력업체 임직원들이 기소됐습니다. 연구소장,영업그룹장,공장장등 임원이 포함된 17명이 그 대상입니다. 이들의 죄목은 산업기술 보호법과 부정경쟁 방지법 위반등 혐의라고 합니다. 이들은 2018년 여름부터 이듬해 6월까지 SK하이닉스의 반도체 제조 기술과 반도체 세정 레시피를 중국 업체에 유출시킨 혐의를 받고있습니다. 이 제조 기술은 국외 유출이 금지되어 있는 반도체 성능과 전도율에 밀접한 관계가 있는 기술이라고 합니다. 이들은 2017년에도 삼성전자 자회사로부터 세정장비 도면등을 유출시킨 혐의도 같이 받고 있습니다. 이 기술들은 10나노급 D램 반도체 제조공정의 핵심기술 입니다. 검찰은 국정원 슬하의 산업기밀보호센터로부터 중국으로의 기술유출 정황이 있다는 보고를 받고 수사해 착수하여 혐의를 확인했다고 합니다. 지난해 7월부터 압수수색하여 신속히 수사에 임했다고 합니다. 검찰 관계자는 "추가 유출을 방지하고, 유출기술을 이용해 만든 세정장비의 추가적인 중국 수출을 사전에 차단했다."고 밝혔습니다. 그와 덧붙여 " 반도체 제조업등의 국가기간산업 핵심기술에 대한 국외 유출 사범은 엄정 대응할것" 이라고 밝혔습니다.